合肥日新高温技术有限公司
详细摘要： CVD（Z）系列真空气氛管式炉专门设计用于中温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。 窑炉...
产品型号：CVD（Z）-06/60/2所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： CVD管式气氛炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长、金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理. CV...
产品型号：所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： CVD管式电阻炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长、金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理. CV...
产品型号：CVD（D）-06/60/3所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： RGL系列气氛管式炉主要用于半导体材料的扩散、氧化工艺；也应用于玻璃对金属的封装焊接、石英制品的热处理、LED发光体材料的煅烧等工艺。耐火、保温材料全部采用*的...
产品型号：RGL系列所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： 低温真空气氛管式炉广泛适用于低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下...
产品型号：CVD系列所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： CVD系列中温管式炉广泛适用于中温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛...
产品型号：CVD系列所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： 高温管式炉广泛适用于高温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长、金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理. 专门用于高校...
产品型号：CVD（G）-07/50/2所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言
详细摘要： CVD系列真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长、金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理...
产品型号：CVD系列所在地：合肥市更新时间：2022-07-12 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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